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हैलोजन और इन्फ्रारेड नमी मापक उपकरणों के बीच क्या अंतर है?

Mar 20, 2024

हैलोजन और इन्फ्रारेड नमी मापक उपकरणों के बीच क्या अंतर है?

 

थर्मोग्रैविमेट्रिक नमी परीक्षक ऊर्जा को विकिरण (तरंगों के माध्यम से (तरंगों या माध्यम (इस मामले में नमूना) से गुजरने वाले कणों के रूप में ऊर्जा) और संवहन (द्रव्यमान आंदोलन के माध्यम से गर्मी हस्तांतरण) द्वारा स्थानांतरित करके कुशलतापूर्वक नमूनों को सुखाते हैं। इसके विपरीत, पारंपरिक सुखाने वाले ओवन मुख्य रूप से नमूनों को सुखाने के लिए संवहन का उपयोग करते हैं। धातु और हलोजन हीटिंग तत्व दोनों अवरक्त स्पेक्ट्रम में ऊर्जा विकीर्ण करते हैं। (दोनों का उपयोग OHAUS MB श्रृंखला में किया जाता है।)


इन्फ्रारेड (IR) विकिरण विद्युतचुंबकीय स्पेक्ट्रम का हिस्सा है, जो माइक्रोवेव ऊर्जा और दृश्य प्रकाश के बीच है। IR में 0.75 माइक्रोन (दृश्यमान लाल प्रकाश की लंबी तरंगदैर्घ्य सीमा) से 1.5 माइक्रोन (माइक्रोवेव पर सीमा) की तरंगदैर्घ्य आवृत्ति सीमा के साथ थर्मल विकिरण शामिल है। इन्फ्रारेड ऊर्जा मानव आंखों को दिखाई नहीं देती है। आम तौर पर इन्फ्रारेड हीटिंग से जुड़ी लाल रोशनी वास्तव में दृश्यमान स्पेक्ट्रम से परावर्तित लाल रोशनी होती है।


कुछ नमी विश्लेषक धातु हीटिंग तत्व का उपयोग करते हैं, जो कि धातु की एक कम प्रतिरोध वाली शीट होती है जो बिजली को गर्मी में परिवर्तित करती है। ऐसे हीटर ऐसे वातावरण के लिए उपयुक्त हैं जहाँ विनियामक या सुरक्षा संबंधी चिंताओं (जैसे, खाद्य प्रसंस्करण) के कारण कांच के घटकों पर प्रतिबंध है। धातु के हीटर संतोषजनक नहीं हैं क्योंकि वे बहुत गर्म होते हैं और हलोजन हीटर की तुलना में गर्म होने में अधिक समय लेते हैं, जिससे उन्हें नियंत्रित करना मुश्किल हो जाता है और नमी विश्लेषकों में अच्छी पुनरुत्पादकता प्रदान नहीं करते हैं।


हैलोजन एमिटर में एक कॉम्पैक्ट ग्लास ट्यूब में टंगस्टन हीटिंग एलिमेंट होता है जिसे टंगस्टन एलिमेंट को सुरक्षित रखने के लिए हैलोजन गैस से भरा जाता है। हैलोजन एमिटर 0.75-1.5 माइक्रोन की छोटी तरंगदैर्ध्य रेंज में अवरक्त विकिरण उत्सर्जित करते हैं। हैलोजन एमिटर की कॉम्पैक्ट प्रकृति हीटिंग/कूलिंग प्रतिक्रिया समय को बेहतर बनाती है, जिससे हीटिंग यूनिट को अपनी पूरी हीटिंग पावर तक पहुंचने में लगने वाला समय कम हो जाता है, और अंततः सैंपल को सुखाने में लगने वाला समय भी कम हो जाता है। यह हीटिंग प्रक्रिया के दौरान बेहतर नियंत्रण की भी अनुमति देता है।

 

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